[发明专利]电磁致动射流装置阀设备、系统和方法在审

专利信息
申请号: 201910785487.1 申请日: 2019-08-23
公开(公告)号: CN110864135A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 里卡多·德萨佛;泽维尔·克拉克·塔尔博特-蒂博;马修·施瓦布;伊恩·马克斯;杰克·林赛 申请(专利权)人: 脸谱科技有限责任公司
主分类号: F16K11/07 分类号: F16K11/07;F16K31/06;F16K31/08
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 李薇;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请涉及电磁致动射流装置阀设备、系统和方法。射流装置阀可以包括具有围绕中心轴的导向壁的阀导向件。导向壁可以包括第一导向部分、第二导向部分和限定阀腔的内表面,该阀腔沿着中心轴从第一导向部分纵向延伸到第二导向部分。该阀还可以包括具有布置在阀腔内的铁磁材料的阀构件,并且阀构件可以沿着中心轴纵向延伸。阀构件还可以具有第一插塞部分和第二插塞部分,并且可在第一插塞部分和第二插塞部分之间限定流体导管。还公开了各种其他方法、系统和计算机可读介质。
搜索关键词: 电磁 射流 装置 设备 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
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