[发明专利]一种双阻变层忆阻器及制备方法在审
申请号: | 201910787219.3 | 申请日: | 2019-08-25 |
公开(公告)号: | CN110676375A | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 叶葱;刘磊;柯善武;刘炎欣 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 42242 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 严超 |
地址: | 430000 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种双阻变层忆阻器及制备方法,所述双阻变层忆阻器包括依次叠加的底电极、第一阻变层、第二阻变层及顶电极;其中,所述第一阻变层由多元钙钛矿氧化物、二元金属氧化物、硫族固态电解质或氮化物中的一种或多种制备;所述第二阻变层由铁电材料制备。本发明的有益效果在于(1)制备方法简单、易于操作;(2)忆阻器在插入铁电材料制备的阻变层后具有阻变窗口大,器件的耐久性好,保持时间长等优势,并获得了多级存储的功能;(3)在施加电压刺激时可连续调控电阻,具有生物突触仿生的功能;(4)可以对生物突触中的时序依赖突触可塑性学习规则进行模拟,具有自主学习的功能。 | ||
搜索关键词: | 阻变层 制备 忆阻器 突触 铁电材料 二元金属氧化物 钙钛矿氧化物 固态电解质 多级存储 连续调控 施加电压 时序依赖 依次叠加 氮化物 底电极 顶电极 可塑性 电阻 硫族 刺激 学习 | ||
【主权项】:
1.一种双阻变层忆阻器,其特征在于,所述双阻变层忆阻器包括依次叠加的底电极、第一阻变层、第二阻变层及顶电极;/n其中,所述第一阻变层由多元钙钛矿氧化物、二元金属氧化物、硫族固态电解质或氮化物中的一种或多种制备;/n所述第二阻变层由铁电材料制备。/n
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