[发明专利]阵列基板和阵列基板的制备方法

摘要

本发明提供一种阵列基板和阵列基板的制备方法，阵列基板包括衬底、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层和平坦化层；缓冲层形成在衬底的一侧，有源层形成在缓冲层远离所述衬底的一侧；栅极绝缘层形成在有源层和缓冲层上；栅极层形成在栅极绝缘层远离有源层的一侧，并图案化形成栅极；层间介质层形成在栅极层和栅极绝缘层上；源漏极层形成在层间介质层远离栅极层的一侧，并图案化形成源极和漏极，源极和漏极通过过孔与有源层连接，过孔形成在层间介质层和栅极绝缘层中；平坦化层形成在源漏极层远离层间介质层的一侧。通过将栅极绝缘层设置为整层结构，平坦化层更易填平，改善了显示效果。

主权项

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：/n衬底：/n缓冲层，形成在所述衬底的一侧；/n有源层，形成在所述缓冲层远离所述衬底的一侧；/n栅极绝缘层，形成在所述有源层和所述缓冲层上；/n栅极层，形成在所述栅极绝缘层远离所述有源层的一侧，并图案化形成栅极；/n层间介质层，形成在所述栅极层和所述栅极绝缘层上；/n源漏极层，形成在所述层间介质层远离所述栅极层的一侧，并图案化形成源极和漏极，所述源极和所述漏极通过过孔与所述有源层连接，所述过孔形成在所述层间介质层和所述栅极绝缘层中；/n平坦化层，形成在所述源漏极层远离所述层间介质层的一侧。/n