[发明专利]一种高硬度耐磨的低光岩板及其制备方法在审
| 申请号： | 201910791275.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN110498608A | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 叶德林;叶永楷;简润桐;陈章武;韦守泉 | 申请（专利权）人： | 广东萨米特陶瓷有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司;佛山市三水冠珠陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C04B41/89;C04B35/622 |
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| 地址： | 526000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种高硬度耐磨的低光岩板，所述低光岩板从下到上依次为坯体层、底釉层、喷印图案层、保护釉层，干粒釉层，其中，所述干粒釉层中的固态干粒的配方组成按重量百分比如下：SiO2：49～53、Al2O3：18～21、CaO：5～7.5、MgO：0.8～1.4、Na2O：3～4、K2O：2.8～3.5、ZnO：6.5～9、SrO：5.5～7、灼减和微量杂质：＜2；本发明采用创新工艺配方的材料结合制得表面具有更好低光效果舒适性，更好理化性能的陶瓷岩板。 | ||
| 搜索关键词： | 低光 岩板 干粒釉 重量百分比 保护釉层 材料结合 创新工艺 配方组成 微量杂质 底釉层 高硬度 坯体层 舒适性 图案层 干粒 耐磨 喷印 配方 陶瓷 | ||
【主权项】：
1.一种高硬度耐磨的低光岩板，其特征在于：所述低光岩板从下到上依次为坯体层、底釉层、喷印图案层、保护釉层，干粒釉层；/n其中，所述干粒釉层中的固态干粒的配方组成按重量百分比如下：/nSiO2 49～53/nAl2O3 18～21/nCaO 5～7.5/nMgO 0.8～1.4/nNa2O 3～4/nK2O 2.8～3.5/nZnO 6.5～9/nSrO 5.5～7/n灼减和微量杂质 ＜2。/n
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