[发明专利]一种利用氢键构建的纳米多孔聚合物薄膜材料在审
| 申请号： | 201910795246.5 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN110591140A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 沈志豪;肖安琪;范星河 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | C08J9/26 | 分类号： | C08J9/26;C08J5/18;C08L87/00;C08G83/00 |
| 代理公司： | 11360 北京万象新悦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李稚婷 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用氢键构建的纳米多孔聚合物薄膜材料。通过两种小分子之间氨基和羧基的氢键超分子相互作用能够组装得到规整的柱状相结构，进一步通过光交联和溶剂刻蚀即可制备得到所述的纳米多孔聚合物薄膜。该多孔聚合物薄膜具有很好的热稳定性、自支撑性以及耐溶剂性。其孔径大小约为1nm并且孔径分布均一，符合纳滤膜孔径要求，能够应用于纳滤膜的制备以及海水淡化方面。其制备过程简单易操作，便于进一步大面积制备。同时，孔径内部分布的羧基可以进一步进行化学修饰，有望应用于催化以及纳米模板等方面。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 纳米多孔聚合物 纳滤膜 氢键 羧基 多孔聚合物薄膜 氨基 海水淡化 薄膜材料 化学修饰 孔径分布 孔径要求 纳米模板 耐溶剂性 热稳定性 制备过程 自支撑性 规整 超分子 光交联 小分子 柱状相 溶剂 构建 均一 刻蚀 薄膜 催化 应用 组装 | ||
【主权项】：
1.一种纳米多孔聚合物薄膜材料，是由模板分子A和配体分子B之间通过氢键相互作用自组装成柱状相结构的超分子复合物，然后通过交联方法固定相结构，再利用溶剂选择性刻蚀去除模板分子A得到的纳米多孔聚合物薄膜，其中，所述模板分子A是能够形成三重配位氢键的分子；所述配体分子B是能够与模板分子A形成氢键且分子末端含有可交联基团的分子。/n
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