[发明专利]描画装置和描画方法有效
| 申请号： | 201910797277.4 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN110928144B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 久野真士 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 宋晓宝;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描画的描画装置以及描画方法。描画装置的描画头(31)具备光源(32)、光调制器件(341)和投影光学系统(35)。来自光源(32)的光被引导至光调制器件(341)。投影光学系统(35)将由光调制器件(341)调制后的光引导至载物台(21)。投影光学系统(35)具备物镜组(352)、焦点透镜组(351)和焦点调节机构(353)。焦点调节机构(353)通过变更焦点透镜组(351)在光轴上的位置来调节描画头(31)的焦点位置。头控制部基于由压力传感器测定出的描画头(31)的周围的压力，控制焦点调节机构(353)。由此，能够对由描画头(31)的周围的压力变动引起的描画头(31)的焦点位置的偏移进行修正。 | ||
| 搜索关键词： | 描画 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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