[发明专利]管式沉积系统有效
申请号: | 201910798935.1 | 申请日: | 2019-08-28 |
公开(公告)号: | CN110408914B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 戴虹;王祥;袁刚;胡兵;奚明 | 申请(专利权)人: | 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;H01L31/18 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201602 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种管式沉积系统,包括载片单元、前置处理腔室、X个反应模块、预加热单元、加热单元和转运单元。所述前置处理腔室与X个所述反应模块之间,以及X个所述反应模块之间均沿垂直方向设置,每个所述反应模块内沿水平方向设置有至少一个管式反应腔体,显著提高了空间利用率,有利于实现产能最大化。所述预加热单元和所述转运单元使得所述载片单元能够在所述前置处理腔室内达到预热温度后,再通过所述转运单元转移至所述管式反应腔体内,避免了所述管式反应腔体中存在的沉积层对加热效果产生的不利影响,有利于工艺处理的稳定性和可重复性。 | ||
搜索关键词: | 沉积 系统 | ||
【主权项】:
1.一种管式沉积系统,其特征在于,包括装载有复数个待处理载片的载片单元、管式反应单元和前置处理单元,所述前置处理单元包括前置处理腔室、预加热单元和转运单元,所述管式反应单元包括加热单元和X个反应模块,X个所述反应模块内设置有N个管式反应腔体,X大于等于2且小于等于N,N为大于等于2的自然数;所述前置处理腔室与X个所述反应模块沿垂直方向设置,以容纳至少N个所述载片单元;X个所述反应模块沿所述垂直方向设置,每个所述反应模块内沿所述水平方向设置有至少一个管式反应腔体;所述管式反应腔体由第一端面、第二端面以及位于所述第一端面和所述第二端面之间的筒形侧面围成,所述第一端面与所述第二端面均垂直于所述水平方向,且分别开设有输入口和输出口;所述预加热单元设置于所述前置处理腔室内,以对所述载片单元进行预热处理并使所述载片单元达到预热温度,所述转运单元用于对达到所述预热温度的载片单元转运至所述反应模块,以完成转运处理;每个所述管式反应腔体用于容纳一个所述载片单元,并对所述载片单元进行工艺处理,所述加热单元用于对所述管式反应腔体内部进行加热。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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