[发明专利]一种照明装置、曝光系统及光刻设备有效
| 申请号： | 201910810130.4 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN112445074B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 田毅强;兰艳平 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种照明装置、曝光系统及光刻设备。其中照明装置包括光源以及在光源的出光路径上依次排列的匀光单元和中继单元，匀光单元用于对光源的出射光束进行匀光，中继单元用于将匀光单元出射光的视场放大；还包括均匀性调整单元，设置于匀光单元或中继单元内，均匀性调整单元所在平面与垂直于出射光束光轴的平面具有可调的第一夹角，以使照明装置形成均匀分布的照明像面。本发明实施例的技术方案，通过设置均匀性调整单元，均匀性调整单元对入射光线的透过率随入射角的变化而变化，通过调整均匀性调整单元所在平面与垂直于出射光束光轴的平面的第一夹角，实现照明像面光线的均匀分布，且该照明装置具有结构简单、成本低的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 照明 装置 曝光 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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