[发明专利]一种基于硅直通孔的三维集成系统热解析方法有效

专利信息
申请号: 201910815400.0 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110516382B 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 马奎;杨发顺;王勇勇;林洁馨;傅兴华 申请(专利权)人: 贵州大学
主分类号: G06F30/367 分类号: G06F30/367;G06F30/30
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 商小川
地址: 550025 贵州省贵*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于硅直通孔的三维集成系统热解析方法,它包括将三维集成系统分解成单个功率元胞,在该功率元胞中,考虑硅通孔横向热阻和纵向热阻的影响,建立分段热阻模型;根据基尔霍夫定律得出包含上下层芯片温度的矩阵方程;根据传热学中热阻表达方式,建立热阻R1~R8的表达式;将热阻R1~R8的表达式代入包含上下层芯片温度的矩阵方程中求解关于温度T的方程组,从而得到三维集成系统中各层芯片的温升情况;解决了现有技术对维集成系统的热解析采用一维热阻模型,它只考虑三维集成系统的纵向传热而没有考虑三维集成系统TSV的横向热阻问题,使得三维集成系统的热可靠性差等问题。
搜索关键词: 一种 基于 直通 三维 集成 系统 解析 方法
【主权项】:
1.一种基于硅直通孔的三维集成系统热解析方法,它包括:/n步骤1、将三维集成系统分解成单个功率元胞,在该功率元胞中,考虑硅通孔横向热阻和纵向热阻的影响,建立分段热阻模型;/n步骤2、以R1和R3表示堆叠系统中顶层芯片和底层芯片硅衬底的热阻,R2和R4表示堆叠系统中顶层键合层和底层键合层的热阻,R5和R6表示散热硅通孔的横向热阻,R7和R8表示散热硅通孔的纵向热阻,根据基尔霍夫定律得出包含上下层芯片温度的矩阵方程;/n步骤3、根据传热学中热阻表达方式,建立热阻R1~R8的表达式;/n步骤4、将热阻R1~R8的表达式代入包含上下层芯片温度的矩阵方程中求解关于温度T的方程组,从而得到三维集成系统中各层芯片的温升情况。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州大学,未经贵州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910815400.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top