[发明专利]一种具有可变角度的场限环终端结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910816910.X 申请日: 2019-08-30
公开(公告)号: CN110707147A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 韩超;孔龙龙;张玉明;汤晓燕;宋庆文;祁力峰 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/266
代理公司: 61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 张捷
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种具有可变角度的场限环终端结构及其制备方法,该场限环终端结构包括:半导体层(101);多个场限环结构(102),间隔分布在所述半导体层(101)的表面区域中,所述场限环结构(102)的第一边缘(103)与所述场限环结构(102)的第一顶部表面(104)之间形成预设夹角,所述预设夹角为30~60°;有源区(105),位于所述半导体层(101)表面区域中且位于多个所述场限环结构(102)形成的环形内部,所述有源区(105)的第二边缘(106)与所述有源区(105)的第二顶部表面(107)之间形成所述预设夹角。该场限环终端结构中场限环结构和有源区的边缘均具备一定倾角,不仅有效的提高了器件的击穿电压,同时提高了器件的反向耐压稳定性。
搜索关键词: 场限环 源区 半导体层 预设夹角 终端结构 顶部表面 反向耐压 击穿电压 间隔分布 环结构 可变 制备
【主权项】:
1.一种具有可变角度的场限环终端结构,其特征在于,包括:/n半导体层(101);/n多个场限环结构(102),间隔分布在所述半导体层(101)的表面区域中,所述场限环结构(102)的第一边缘(103)与所述场限环结构(102)的第一顶部表面(104)之间形成预设夹角,所述预设夹角为30~60°;/n有源区(105),位于所述半导体层(101)表面区域中且位于多个所述场限环结构(102)形成的环形内部,所述有源区(105)的第二边缘(106)与所述有源区(105)的第二顶部表面(107)之间形成所述预设夹角。/n
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