[发明专利]光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置有效
| 申请号： | 201910818265.5 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN112445076B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 田毅强;兰艳平;储兆祥 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置，所述离轴照明装置包括光源及依次排列的反射单元、耦合单元、匀光单元及中继镜组，耦合单元至少包括变焦镜组和汇聚镜组，汇聚镜组位于变焦镜组和匀光单元之间，所述方法包括：将光束投射到匀光单元之前，使光瞳位置发生平移，使得平移后光瞳中的光束以非对称的方式入射至匀光单元，但入射的非对称光束经过匀光后形成离轴照明视场。本发明的优点是，在保证光瞳均匀性的前提下，减小能量损失，提高产率，同时简化光路结构，降低成本，节省安装空间。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 曝光 系统 实现 照明 方法 装置 | ||
【主权项】：
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