[发明专利]一种具有纳米共晶片层结构的铁磁性形状记忆合金有效
| 申请号： | 201910820850.9 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110484802B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 吴志刚;梁志文;张亚九;向婉婉 | 申请（专利权）人： | 广州大学 |
| 主分类号： | C22C30/04 | 分类号： | C22C30/04;C22C1/02;H01F1/147;H01F41/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 林德强 |
| 地址： | 510006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种具有纳米共晶片层结构的铁磁性形状记忆合金。铁磁性形状记忆合金的化学式可表示为Ni |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 纳米 晶片 结构 铁磁性 形状 记忆 合金 | ||
【主权项】：
1.一种铁磁性形状记忆合金，其特征在于：/n所述铁磁性形状记忆合金的化学式为Ni51.5Mn40-xFexSn8.5，0＜x≤8。/n
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