[发明专利]指数型非线性微轴锥镜阵列有效

专利信息
申请号: 201910821826.7 申请日: 2019-09-02
公开(公告)号: CN110531523B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 匡登峰;黄曾鑫 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300350*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 产生类贝塞尔光束晶格阵列的指数型非线性微轴锥镜阵列器件,该器件是由一个高度变化率为指数型的介质微轴锥镜阵列化构成,当入射光垂直入射并通过指数型非线性微轴锥镜阵列器件底面之后,在器件前端附近形成具有较长工作距离,稳定强度分布的类贝塞尔光场,阵列化后可以形成类贝塞尔晶格光片阵列。具体表现为:非线性微轴锥镜阵列产生的类贝塞尔光束在器件出射平面附近时拥有比贝塞尔光束更稳定的强度变化和更大的工作区域。将生物细胞附着于器件表面进行发育和繁殖,可利用该器件激发样品整体的荧光信息,即可捕获到活体生物的动态发育过程。非线性微轴锥镜阵列贝塞尔光束在显微光片照明、生物荧光成像方面有很大的潜力。
搜索关键词: 指数 非线性 微轴锥镜 阵列
【主权项】:
1.一种能够产生具有类贝塞尔光束晶格阵列的非线性微轴锥镜阵列器件,其特征在于该器件中单个元件的母线为指数函数,该器件的微轴锥镜在直角坐标系下的结构方程为:/n /n其中:该坐标系以单个元件底面圆心为原点,垂直底面方向为z轴,建立直角坐标系,R为单个元件的底面半径,决定着器件的工作区域,H是锥体的高度且另外,决定着器件曲线的弯折程度,也就决定了器件的聚焦效果和加工难度。而k是母线的阶数,k的取值决定了曲线的类型,k取值越高焦距越短,但也需要更大的底面半径来防止全反射的发生。当入射光以垂直底面方向入射并通过该器件之后,由于折射和衍射的效应,出射光束将会在非线性微轴锥镜器件前端形成具有类贝塞尔光束的光场分布,比传统的贝塞尔光束有更大的工作范围和前端工作区间。/n
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