[发明专利]电解反应控制结构及其应用的电解装置在审
| 申请号： | 201910829046.7 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110592654A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 朱爱明;刘建波;吴志鹏 | 申请（专利权）人： | 昆山东威科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/14;H05K3/07 |
| 代理公司： | 11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑越 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于电解蚀刻装置领域，具体涉及一种电解反应控制结构及其应用的电解装置。一种电解反应控制结构，包括液位计，设于电解液中，用于测量电解液液面高度并在所述液面高度低于预设高度时发出补液信号；控制结构，用于接收所述液位计发出的补液信号并控制泵浦补给电解液；遮蔽结构，包括遮蔽单元，设于阴极件的端部和待蚀刻件端部之间,以减缓所述阴极件端部与所述待蚀刻件端部之间的电解液流动速度，所述待蚀刻件与阳极导线连接。液位计令电解液始终在要求范围内，降低因电解液液面太低而停止待蚀刻件顶部的反应的风险；在电解液始终充裕的前提下，再通过减弱待蚀刻件顶部和底部的电力线边缘效应，令整个待蚀刻件上的蚀刻效果趋于均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 电解液 控制结构 液位计 电解反应 阴极件 补液 液面 电解蚀刻装置 测量电解液 电解液流动 电解液液面 边缘效应 电解装置 阳极导线 遮蔽单元 遮蔽结构 电力线 控制泵 预设 补给 应用 | ||
【主权项】：
1.一种电解反应控制结构，其特征在于，包括：/n液位计(1)，设于电解液中，用于测量电解液液面高度并在所述液面高度低于预设高度时发出补液信号，/n控制结构，用于接收所述液位计(1)发出的补液信号并控制泵浦补给电解液；/n遮蔽结构(2)，包括：/n遮蔽单元(21)，设于阴极件的端部和待蚀刻件端部之间以减缓所述阴极件端部与所述待蚀刻件端部之间的电解液流动速度，所述待蚀刻件与阳极导线连接。/n
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