[发明专利]一种圆偏或椭偏高次谐波的产生和调节方法及装置有效
申请号: | 201910829423.7 | 申请日: | 2019-09-03 |
公开(公告)号: | CN110703532B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 兰鹏飞;邵任之;翟春洋;陆培祥 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开一种圆偏或椭偏高次谐波的产生和调节方法及装置。该方法利用两束不同频率的线性偏振光驱动气体介质辐射高次谐波,通过调节双色场的相对相位,保证辐射高次谐波的效率;通过调节双色场的偏振夹角和强度比,调节辐射高次谐波的椭偏率,使得在合适偏振夹角和强度比下,辐射出的奇次、偶次高次谐波强度出现明显差异,而且奇次和偶次高次谐波分别具有相同旋性,可以用于合成高效率的圆偏或椭偏阿秒脉冲。这是一种具有实用性的产生和调节相干极紫外光椭偏率的方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 偏高 谐波 产生 调节 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种圆偏或椭偏高次谐波的产生和调节方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤S0、通过双色场与气体相互作用,辐射出圆偏或椭偏高次谐波;/n步骤S1、通过调节双色场相对相位,调节所述高次谐波的效率;/n步骤S2、将所述双色场相对相位固定在获得最高效率高次谐波时所对应的相对相位处,通过调节双色场的偏振夹角和强度比调节所述高次谐波的椭偏率。/n
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