[发明专利]一种减反射无氟超疏水自清洁纳米薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201910829724.X | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110564187A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 王永;孙明悦;高亚男;孙敏;刘俊成;聂丽芳 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00;C03C17/25 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种减反射无氟超疏水自清洁纳米薄膜及其制备方法。所述薄膜主要由SiO | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 制备 纳米薄膜 超疏水 减反射 疏水性 涂覆 碱性有机溶剂 烷氧基硅烷 工艺环节 硅酸酯类 加热处理 减反射性 胶体溶液 纳米颗粒 去离子水 溶胶液体 溶胶制备 物体表面 制备工艺 制备过程 非透光 氟化物 氟元素 摩尔比 有机物 自清洁 透光 陈化 水解 表现 | ||
【主权项】：
1.一种减反射无氟超疏水自清洁纳米薄膜及其制备方法，其特征在于：所述薄膜主要由SiO
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