[发明专利]一种基于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法有效
| 申请号： | 201910831350.5 | 申请日： | 2019-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN110655622B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 沙金;赵海利;陈欣;冯路;杨润哲;马玉录;谢林生 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C08F292/00 | 分类号： | C08F292/00;C08F220/30;C08F2/46 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;刘奉丽 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法。其借由无掩模光刻系统的时空调制特性实现基体材料表面聚合反应过程的调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷。本发明采用无掩模光刻系统的时空光调制特性，在聚合物刷制备过程中能够对其化学、物理结构进行实时调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷(例如各种复杂、多功能、可编程结构的)，实现对聚合物刷嵌段结构、厚度梯度特征及化学活性位点密度地控制，并能够在任意基体材料表面便捷地实现多元复合聚合物刷微图案。相比其他聚合物刷微图案制备方法，本发明具有制备效率高、成本低、可制备结构复杂的聚合物刷、聚合反应过程可控等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 无掩模 光刻 系统 制备 聚合物 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于无掩模光刻系统制备聚合物刷微图案的方法，其特征在于，借由无掩模光刻系统的时空调制特性实现基体材料表面聚合反应过程的调控，以得到结构可控的图案化聚合物刷。/n
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