[发明专利]氮化硅膜蚀刻组合物及利用其的方法有效
| 申请号： | 201910835738.2 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110872516B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 金东铉;朴贤宇;曹长佑;金泰镐;李明护;宋明根 | 申请（专利权）人： | 易案爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01L21/311 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;金明花 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及氮化硅膜蚀刻组合物，更具体地，涉及通过将聚硅化合物包含在蚀刻组合物中，从而相对于氧化硅膜能够以高选择比蚀刻氮化硅膜的氮化硅膜用蚀刻组合物、利用其的氮化硅膜的蚀刻方法及半导体元件的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 蚀刻 组合 利用 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于易案爱富科技有限公司，未经易案爱富科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910835738.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
