[发明专利]吸收层与倍增层为分离结构的紫外探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910837328.1 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN110690314B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 周幸叶;吕元杰;谭鑫;王元刚;宋旭波;梁士雄;冯志红 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0288;H01L31/18
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 秦敏华
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 本申请适用于半导体技术领域,提供了一种吸收层与倍增层为分离结构的紫外探测器及其制备方法,该紫外探测器包括:衬底;第一外延层,位于所述衬底上,所述第一外延层为重掺杂外延层;倍增层,位于所述第一外延层上,所述倍增层的掺杂浓度由下至上增加;吸收层,位于所述倍增层上,所述吸收层的掺杂浓度由下至上减小;欧姆接触层,形成于所述吸收层中,所述欧姆接触层的上表面不低于所述第三外延层的上表面,且,所述欧姆接触层的下表面高于所述第三外延层的下表面;上电极层,位于所述欧姆接触层上。本申请可以降低隧穿效应导致的暗电流,提高紫外探测器的信噪比。
搜索关键词: 吸收 倍增 分离 结构 紫外 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种吸收层与倍增层为分离结构的紫外探测器,其特征在于,所述紫外探测器包括:/n衬底;/n第一外延层,位于所述衬底上,所述第一外延层为重掺杂外延层;/n倍增层,位于所述第一外延层上,所述倍增层的掺杂浓度由下至上增加;/n吸收层,位于所述倍增层上,所述吸收层的掺杂浓度由下至上减小;/n欧姆接触层,形成于所述吸收层中,所述欧姆接触层的上表面不低于所述第三外延层的上表面,且,所述欧姆接触层的下表面高于所述第三外延层的下表面;/n上电极层,位于所述欧姆接触层上。/n
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