[发明专利]一种高发射率、低热导率涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201910841764.6 | 申请日： | 2019-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN110468365A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 田伟智 | 申请（专利权）人： | 北京星航机电装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/073 | 分类号： | C23C4/073;C23C4/11;C23C4/134;C23C4/02 |
| 代理公司： | 11011 中国兵器工业集团公司专利中心 | 代理人： | 祁恒<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 100074 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于热防护涂层制备技术领域，具体涉及一种高发射率、低热导率涂层及其制备方法。该制备方法包括在零件基体表面依次喷涂CoNiCrAlY底层、氧化锆过渡层和高发射率面层，得到高发射率、低热导率涂层。利用本发明得到的高发射率、低热导率涂层，涂层厚度结构合理，可有效避免各层材料之间因热膨胀系数差异导致的失效；采用高发射率材料、氧化锆过渡层、底层等材料的组合，可提高表面发射率的同时，降低高温高速气流对基体的热传导，有效降低高温结构件的热载荷。 | ||
| 搜索关键词： | 高发射率 低热导率 过渡层 氧化锆 制备 热膨胀系数差异 高发射率材料 高温高速气流 制备技术领域 表面发射率 高温结构件 热防护涂层 厚度结构 零件基体 热传导 热载荷 面层 喷涂 | ||
【主权项】：
1.一种高发射率、低热导率涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括在零件基体表面依次喷涂CoNiCrAlY底层、氧化锆过渡层和高发射率面层，得到高发射率、低热导率涂层。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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