[发明专利]基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置在审
申请号: | 201910845053.6 | 申请日: | 2019-09-07 |
公开(公告)号: | CN110596100A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 苑立波;纪竞凯 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84;G01N21/01;G02B21/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541004 广西*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本发明提供的是一种基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置。其特征是:它由同轴双波导光纤1、同轴双波导光纤连接器2、相机3、计算机4、光源5及光纤6组成。足够大的波矢可以激发多层介质膜基底1表面产生表面布洛赫波,对环境变化非常灵敏,利用同轴双波导光纤1的环形芯1‑1使激光激发表面布洛赫波与样品相互作用消除表面等离激元作用于样品后带来的拖尾,同时使用同轴双波导光纤1的中间芯进行散射光收集,经由计算机4处理获得高信噪比和高分辨率的图像。该发明使用特种光纤,可有效降低成本、优化结构,可实现便携式高信噪比和高分辨率微纳显微成像。 | ||
搜索关键词: | 同轴双波导 光纤 高分辨率 高信 表面等离激元 显微成像装置 有效降低成本 多层介质膜 光纤连接器 散射光收集 环境变化 激光激发 特种光纤 显微成像 优化结构 环形芯 中间芯 计算机 波矢 基底 拖尾 光源 灵敏 相机 图像 激发 | ||
【主权项】:
1.基于同轴双波导光纤布洛赫波纳米显微成像装置,其特征是:它由同轴双波导光纤1、同轴双波导光纤连接器2、相机3、计算机4、光源5及光纤6组成。/n所述组成中:将光源5发出的光经光纤6的一束穿过同轴双波导光纤连接器2打入同轴双波导光纤1的环形芯1-1,经过微加工的光纤端使得线偏振光与光纤锥体圆台端面的多层介质膜基底呈特定角度,该角度可在已知参数下求得;激光经过同轴双波导光纤1的环形芯1-1形成一束具有特定入射角的光照明样品照明样品,其具有足够大的波矢可以有效地激发等多层介质膜基底中存在的表面布洛赫波;表面布洛赫波传播经过样品时,会发出散射信号光和表面拖尾,该激光由同轴双波导光纤1的环形芯1-1入射,同时360度激发表面等离激元,可以有效消除表面拖尾;散射光由连接相机3的同轴双波导光纤1的中间芯1-2收集,并与光源的另一束光在相机3上形成干涉图,由计算机4利用离轴数字全息算法,从光纤中提取图像的赋值和相位在计算机上还原图像,从而可以获得高分辨率和对比度的表面波显微成像。/n
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