[发明专利]一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法有效

专利信息
申请号: 201910845381.6 申请日: 2019-09-06
公开(公告)号: CN110527975B 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 冯巍;谢小刚 申请(专利权)人: 新磊半导体科技(苏州)有限公司
主分类号: C23C16/30 分类号: C23C16/30;C23C16/52;H01L21/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 215000 江苏省苏州市高新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法,涉及半导体制造技术领域。该定标方法包括:对InxGa1‑xP中的多个不同组分配比x分别进行定标生长,获取对应的多个第一参数;根据第一预定算法,得到x与第一参数之间的第一关系;对InAsyP1‑y中的多个不同组分配比y分别进行定标生长,获取对应的多个第二参数;根据第二预定算法,得到y与第二参数之间的第二关系;针对Inx,Ga1‑x’Asy,P1‑y’,根据第一和第二关系,确定对应的外延生长条件参数。通过分别对III族和V族元素的多个不同组分配比进行定标生长,获取对应的生长条件参数,以获得组分配比与生长条件参数之间的关系,针对Inx,Ga1‑x’Asy,P1‑y’,可根据所述关系直接确定外延生长条件参数,从而提高了生产效率,降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 ingaasp 四元系 材料 分子 外延 生长 定标 方法
【主权项】:
1.一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法,其特征在于,用于对InGaAsP四元系材料中的III族元素和V族元素的组分配比和生长条件进行定标,所述方法包括:/n对InxGa1-xP三元系材料中的III族元素的多个不同组分配比x分别进行定标生长,以获取对应的多个第一分子束外延生长条件参数;/n基于所述多个不同组分配比x和所述多个第一分子束外延生长条件参数,根据第一预定算法,得到所述多个不同组分配比x与所述多个第一分子束外延生长条件参数之间的第一关系;/n对InAsyP1-y三元系材料中的V族元素的多个不同组分配比y分别进行定标生长,以获取对应的多个第二分子束外延生长条件参数;/n基于所述多个不同组分配比y和所述多个第二分子束外延生长条件参数,根据第二预定算法,得到所述多个不同组分配比y与所述多个第二分子束外延生长条件参数之间的第二关系;/n针对预定组分配比的Inx’Ga1-x’Asy’P1-y’四元系材料,根据所述第一关系和所述第二关系,确定对应的分子束外延生长条件参数。/n
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