[发明专利]一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法有效
申请号: | 201910845381.6 | 申请日: | 2019-09-06 |
公开(公告)号: | CN110527975B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 冯巍;谢小刚 | 申请(专利权)人: | 新磊半导体科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/52;H01L21/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215000 江苏省苏州市高新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明提供一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法,涉及半导体制造技术领域。该定标方法包括:对In |
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搜索关键词: | 一种 ingaasp 四元系 材料 分子 外延 生长 定标 方法 | ||
【主权项】:
1.一种InGaAsP四元系材料分子束外延生长的定标方法,其特征在于,用于对InGaAsP四元系材料中的III族元素和V族元素的组分配比和生长条件进行定标,所述方法包括:/n对InxGa1-xP三元系材料中的III族元素的多个不同组分配比x分别进行定标生长,以获取对应的多个第一分子束外延生长条件参数;/n基于所述多个不同组分配比x和所述多个第一分子束外延生长条件参数,根据第一预定算法,得到所述多个不同组分配比x与所述多个第一分子束外延生长条件参数之间的第一关系;/n对InAsyP1-y三元系材料中的V族元素的多个不同组分配比y分别进行定标生长,以获取对应的多个第二分子束外延生长条件参数;/n基于所述多个不同组分配比y和所述多个第二分子束外延生长条件参数,根据第二预定算法,得到所述多个不同组分配比y与所述多个第二分子束外延生长条件参数之间的第二关系;/n针对预定组分配比的Inx’Ga1-x’Asy’P1-y’四元系材料,根据所述第一关系和所述第二关系,确定对应的分子束外延生长条件参数。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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