[发明专利]再分布基板、制造再分布基板的方法和半导体封装件在审

专利信息
申请号: 201910845973.8 申请日: 2019-09-09
公开(公告)号: CN110896062A 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 金钟润;李锡贤;裵珉准 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/498;H01L23/31
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 李娜;王占杰
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种再分布基板、一种制造再分布基板的方法以及一种半导体封装件。所述方法包括:形成第一导电图案;在所述第一导电图案上形成第一光敏层,所述第一光敏层具有暴露所述第一导电图案的第一部分的第一通孔;在所述第一通孔中形成第一通路;去除所述第一光敏层;形成包封所述第一导电图案和所述第一通路的第一电介质层,所述第一电介质层暴露所述第一通路的顶表面;以及在所述第一通路的所述顶表面上形成第二导电图案。
搜索关键词: 再分 布基板 制造 方法 半导体 封装
【主权项】:
暂无信息
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