[发明专利]光刻掩模光学修正的方法、装置及计算机可读存储介质有效
| 申请号： | 201910849892.5 | 申请日： | 2019-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN110376843B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 崔绍春;陈雪莲 | 申请（专利权）人： | 墨研计算科学(南京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 11363 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210031 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及制备光学临近校正(OPC)设计工艺技术领域，具体而言，涉及一种光刻掩模光学修正的方法、装置及计算机可读存储介质。本发明提供一种光刻掩模光学修正的方法，包括：对修正前数据进行处理，得到基于多个分类的修正前数据；对所述基于多个分类的修正前数据进行光学临近修正，得到多个分类的修正后数据；使用修正模块对修正后数据进行确定，得到修正后数据。 | ||
| 搜索关键词： | 修正 光刻掩模 光学修正 计算机可读存储介质 分类 工艺技术领域 光学临近修正 修正模块 校正 制备 | ||
【主权项】：
1.一种光刻掩模光学修正的方法，其特征在于，包括：/n对修正前数据进行处理，得到基于多个分类的修正前数据；/n所述对修正前数据进行处理，包括：将修正前数据划分成n个集合，所述集合包括一个几何图形及其周围对它有影响的几何图形；/n分别获取所述n个集合的面积的值；/n将所述获取的n个集合的面积从小到大等额增加划分成n个分类并对所述分类标记；/n基于所述修正前数据和所述分类标记，生成训练集；/n利用所述训练集对初始模型进行训练，得到分类确定模型；对所述基于多个分类的修正前数据进行光学临近修正，得到多个分类的修正后数据；/n利用修正模块对修正后数据进行确定，得到修正后数据。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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