[发明专利]一种超衍射极限焦斑阵列生成装置有效

专利信息
申请号: 201910853722.4 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN110568731B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 郝翔;刘鑫;匡翠方;刘旭;李海峰 申请(专利权)人: 浙江大学;之江实验室
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B21/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 刘静
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制,从而在样品面产生实心焦斑阵列;使淬灭光束或去交联光束经过相位调制,从而在样品面产生空心焦斑阵列,并使这两个焦斑阵列对准,最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列,所以生成的焦斑数量可以为任意多个,从而实现高通量的超分辨成像与激光直写,与已有的方法相比,本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
搜索关键词: 一种 衍射 极限 阵列 生成 装置
【主权项】:
1.一种超衍射极限焦斑阵列生成装置,其特征在于,包括:/n第一光源模块、第一反射镜、第一光调制模块、第一透镜、第二透镜、第二反射镜、第二光源模块、第三反射镜、第二光调制模块、第三透镜、第四透镜、第一二色镜、第一振镜、第二振镜、扫描透镜、第五透镜和第二二色镜;/n第一光源模块发出准直左旋圆偏振光,经第一反射镜入射到第一光调制模块,经其相位调制后,再经第一透镜、第二透镜、第二反射镜入射到第一二色镜表面,经第一二色镜表面反射,再经第一振镜、第二振镜、扫描透镜、第五透镜聚焦至样品,此光束为第一光束,此光束在样品上形成空心焦斑阵列;/n第二光源模块发出准直光,经第三反射镜入射到第二光调制模块,经其相位调制后,再经第三透镜、第四透镜、再经第二二色镜透射,到达第一二色镜,经第一二色镜透射,再经第一振镜、第二振镜、扫描透镜、第五透镜聚焦至样品,此光束为第二光束,此光束在样品上形成实心焦斑阵列;/n第一光束的空心焦斑阵列与第二光束的实心焦斑阵列在样品上重合,从而生成超衍射极限焦斑阵列。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学;之江实验室,未经浙江大学;之江实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910853722.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top