[发明专利]一种产生并行超分辨焦斑的方法和装置有效
| 申请号： | 201910855174.9 | 申请日： | 2019-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN110632045B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;陈宇宸;刘旭;郝翔;李海峰 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/21;G02B27/58 |
| 代理公司： | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 311121 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种产生并行超分辨焦斑的方法，具体为：使用空间光调制器将激光器发出的激发光调制为多焦点的高斯光斑；激光器发出的耗尽光经过偏振分束器和方向垂直的两个光栅分成四束耗尽光，并在物镜后焦面干涉生成多焦点的空心光斑；多焦点空心耗尽光抑制多焦点高斯激发光外圈激发的荧光分子发出荧光，从而并行地获得远小于衍射极限的有效荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。本发明还公开一种产生并行超分辨焦斑的装置。本发明能够实现超高速和超高分辨率的受激发射损耗显微成像和激光直写光刻加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 产生 并行 分辨 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种产生并行超分辨焦斑的方法，其特征在于，包括步骤：/n1)激发光在相位调制后投射到待测样品，生成n个实心激发光斑并激发荧光信号；/n2)损耗光投射到待测样品干涉形成n个空心损耗光斑，各空心损耗光斑将与其对应的实心激发光斑的外圈荧光损耗掉；/n3)利用n个探测器收集实心激发光斑激发的外圈荧光损耗掉后的荧光信号进行显微成像和激光直写光刻。/n
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