[发明专利]用于沉积薄膜的掩模框组件在审
申请号: | 201910856547.4 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN111004995A | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 李相信;李胤抒;李锺大;金相勳;郑栋燮 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请涉及掩模框组件。该用于沉积薄膜的掩模框组件包括:掩模框;至少一个掩模片,位于掩模框上,至少一个掩模片包括图案孔和无孔图案部分,图案孔包括位于掩模片的沉积区域中的第一图案孔以及位于掩模片的、在沉积区域之间的虚设区域中的第二图案孔,第一图案孔和第二图案孔在第一方向上交替,无孔图案部分位于第一图案孔与第二图案孔之间的边界区域中;以及第一支承杆,在第一方向上间隔开并且遮挡第二图案孔。无孔图案部分不包括图案孔,并且呈位于沉积区域中的一个沉积区域的至少一个边缘上的带形状的形式。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 薄膜 掩模框 组件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910856547.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示装置
- 下一篇:一种三氟甲基亚磺酰卤的制备方法
- 同类专利
- 专利分类