[发明专利]一种制造HIT电池的非晶硅镀膜设备

摘要

本发明公开了一种制造HIT电池的非晶硅镀膜设备，包括依次设置的机械手上料台、本征非晶硅镀膜体系、水平移载台、N层非晶硅镀膜体系、翻转移载台、P层非晶硅镀膜体系及机械手下料台，以及分别用于本征非晶硅镀膜体系、N层非晶硅镀膜体系与P层非晶硅镀膜体系的载板，以及用于载板回传的载板回传循环系统一、载板回传循环系统二及载板回传循环系统三,载板通过链式输送带连续循环运行。该发明通过设备和工艺的整合连续动态镀膜，一次性完成4层HIT电池非晶硅膜的镀膜，产能达到6000片/小时或更高，且解决了绕镀及化学元素磷和硼在硅片正反面的交叉污染问题。

主权项

1.一种制造HIT电池的非晶硅镀膜设备，其特征在于，包括链式循环运行的载板(200)，以及依次设置的用于硅片的机械手上料台(100)、用于硅片正反面镀膜的本征非晶硅镀膜体系(110)、用于硅片的水平移载台(120)、N层非晶硅镀膜体系(130)、用于硅片的翻转移载台(140)、P层非晶硅镀膜体系(150)及用于硅片的机械手下料台(160)；所述载板(200)包括用于本征非晶硅镀膜体系(110)的载板、用于N层非晶硅镀膜体系(130)的载板及用于P层非晶硅镀膜体系(150)的载板；/n所述机械手上料台(100)与水平移载台(120)之间设置有载板回传循环系统一(170)，所述载板回传循环系统一(170)位于所述本征非晶硅镀膜体系(110)的下方或侧边；/n所述水平移载台(120)与翻转移载台(140)之间设置有载板回传循环系统二(180)，所述载板回传循环系统二(180)位于所述N层非晶硅镀膜体系(130)的下方或侧边；/n所述翻转移载台(140)与机械手下料台(160)之间设置有载板回传循环系统三(190)，所述载板回传循环系统三(190)位于所述P层非晶硅镀膜体系(150)的下方或侧边。/n