[发明专利]三维半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 201910863817.4 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN111341779A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 千志成;白石千;孙仑焕;崔峻荣 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张青
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种三维半导体存储装置包括:衬底,其包括单元阵列区和连接区;堆叠结构,其包括依次堆叠在衬底上的下堆叠结构和上堆叠结构,其中,堆叠结构包括交替且垂直地堆叠在衬底上的绝缘层和电极;垂直结构,其位于穿透单元阵列区上的下堆叠结构和上堆叠结构的沟道孔中;以及伪结构,其位于穿透连接区上的下堆叠结构和上堆叠结构中的至少一个的伪孔中。连接区包括位于单元阵列区的一侧的第二连接区和位于第二连接区的一侧的第一连接区。第二连接区中的伪孔的表面图案形状与第一连接区中的伪孔的形状不同。
搜索关键词: 三维 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
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