[发明专利]一种配置清洗设备的离子源刻蚀腔室及离子束清洗方法有效
| 申请号： | 201910875495.5 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN110571120B | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 胡冬冬;李娜;程实然;侯永刚;王铖熠;刘海洋;郭颂;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种配置清洗设备的离子源刻蚀腔室及离子束清洗方法，属于半导体器件及芯片等的制造设备领域。该刻蚀腔室由反应腔及离子源固定腔组成；反应腔与离子源固定腔相互连通；反应腔内的中心处设有摇摆电极，离子源固定腔内设有离子源；反应腔与离子源固定腔的连通处之间设有挡板；挡板通过外部驱动旋转从而移动至离子源的发射束端；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；所述的反应腔上设有若干个离子束发生器；离子束发生器外部充气装置及控制相连；通过离子束对刻蚀腔室内进行污染物清洗。本发明提供的配置清洗设备的离子源刻蚀腔室及离子束清洗方法，可清洗刻蚀腔室内所残留的污染物，保证了蚀刻腔室的清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 配置 清洗 设备 离子源 刻蚀 离子束 方法 | ||
【主权项】：
1.一种配置清洗设备的离子源刻蚀腔室，该刻蚀腔室由反应腔及离子源固定腔组成；反应腔与离子源固定腔相互连通；反应腔内的中心处设有摇摆电极，离子源固定腔内设有离子源；反应腔与离子源固定腔的连通处之间设有挡板；挡板通过外部电机驱动旋转从而移动至离子源的发射束端；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；其特征在于：所述的反应腔上设有若干个离子束发生器；离子束发生器外部充气装置及控制相连；通过离子束对刻蚀腔室内进行污染物清洗。/n
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