[发明专利]扫描光场成像系统有效

专利信息
申请号: 201910875795.3 申请日: 2019-09-17
公开(公告)号: CN110596885B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 吴嘉敏;卢志;肖红江 申请(专利权)人: 浙江荷湖科技有限公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;H04N5/232;G01B11/00
代理公司: 北京金蓄专利代理有限公司 11544 代理人: 刘立义
地址: 311121 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种扫描光场成像系统。通过扫描微透镜阵列或者等效的扫描方式来提升光场成像系统的分辨率性能,提升空间采样率,克服空间采样精度与角度采样精度之间的矛盾,获取高分辨率的四维相空间信息,并将光场成像系统中的微透镜阵列固定在二维压电平移台之中,通过二维快速扫描,实现对空间域的高分辨率采样,得到高分辨率的四维相空间信息,因此能够有效提升光场成像包括显微成像,宏观成像和天文成像等的重建分辨率,从而拓展了光场成像系统的应用范围。
搜索关键词: 扫描 成像 系统
【主权项】:
1.扫描光场成像系统,其特征在于,包括:/n普通成像模块,用于对样本或者场景进行光学成像;/n微透镜阵列平移模块,由二维电动平移台和微透镜阵列组成,所述微透镜阵列用于采集不同空间局部位置的不同角度光强分布,将对应于不同角度的信息调制到每个微透镜后对应的不同空间位置,所述二维电动平移台用于带动所述微透镜阵列进行二维平移,以对带有样本信息的光束的进行二维扫描;/n相机,用于当所述二维电动平移台每平移一次之后采集扫描光场图像,以获得扫描光场图像堆栈信息;/n控制系统,用于控制所述二维电动平移台的二维平移,并同步触发所述二维电动平移台与所述相机。/n
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