[发明专利]采用远程等离子体源自清洗离子束刻蚀装置及清洗方法有效
| 申请号： | 201910875813.8 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN110571121B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 李娜;胡冬冬;程实然;侯永刚;王铖熠;刘海洋;郭颂;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及其采用远程等离子体源自清洗离子束刻蚀装置及清洗方法，属于半导体设备领域。采用远程等离子体源自清洗离子束刻蚀装置，该刻蚀腔室的反应腔与离子源固定腔相互连通；离子源固定腔内设有离子源；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；远程等离子体源布置于所离子源固定腔上，其远程等离子体源的输出端伸入离子源内；远程等离子体源或布置于反应腔外侧，远程等离子体源的输出端伸入反应腔内；或远程等离子体源同时布置于离子源固定腔上与反应腔上。本发明提供通过绝缘筒内部形成稳定的电磁场，清洗气体在电磁场作用下被电离，形成活性气体原子，活性气体原子沿着路径进入反应腔室内部并且迅速蔓延，带走所有暴露的碳基颗粒及其他污染物，从而实现清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 远程 等离子体 源自 清洗 离子束 刻蚀 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.采用远程等离子体源自清洗离子束刻蚀装置，该刻蚀腔室由反应腔及离子源固定腔组成；反应腔与离子源固定腔相互连通；反应腔内的中心处设有摇摆电极，离子源固定腔内设有离子源；反应腔与离子源固定腔的连通处之间设有挡板；挡板通过外部电机驱动旋转从而移动至离子源的发射束端；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；其特征在于：还包括远程等离子体源，所述的远程等离子体源布置于所离子源固定腔上，其远程等离子体源的输出端伸入离子源内；所述的远程等离子体源或布置于反应腔外侧，其远程等离子体源的输出端伸入反应腔内；或所述的远程等离子体源同时布置于离子源固定腔上与反应腔上。/n
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