[发明专利]一种双测量模式干涉装置及其测量方法有效
| 申请号： | 201910877676.1 | 申请日： | 2019-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN110806184B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 王道档;朱其幸;孔明;许新科;赵军;刘维;郭天太 | 申请（专利权）人： | 中国计量大学 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01B9/02 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双测量模式干涉装置及其测量方法，包括：光源，能够产生至少两种指定波长的初始光；公共光路模块，接收初始光，并将初始光分为参考光和检测光；检测光路模块，接收检测光并透过显微物镜出射到待测元件；参考光路模块，接收参考光并在内部反射；接收光路模块，接收公共光路模块中的光的干涉条纹信息；计算单元，分析接收光路模块得到的干涉条纹信息，采用四步移相算法计算得到与待测元件表面信息相对应的瞬态波前分布；其中参考光路模块包括参考反射镜，在光源产生一种波长的初始光时参考光路模块直接返回参考光，光源产生另一种波长的初始光时参考光路模块内经参考反射镜后再返回。本发明光路精简，结构紧凑，测量快速。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 模式 干涉 装置 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
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