[发明专利]晶体管基底及制造其的方法和包括其的显示装置在审
| 申请号： | 201910879068.4 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110931566A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 金兑相;朴晙晳;金光淑;文然建;朴根徹;林俊亨;全景辰 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/34;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩芳;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种晶体管基底、制造晶体管基底的方法和包括晶体管基底的显示装置。所述晶体管基底可以包括：基底；有源图案，形成在基底上，有源图案包括包含锡(Sn)的氧化物半导体，并且有源图案包括源区、漏区和形成在源区与漏区之间的沟道区；源极保护图案，形成在源区上；漏极保护图案，形成在漏区上；栅电极，与沟道区的至少一部分叠置；绝缘夹层，覆盖源极保护图案和漏极保护图案；源电极，形成在绝缘夹层上，源电极通过形成在绝缘夹层中的源极接触孔与源极保护图案接触；以及漏电极，形成在绝缘夹层上，漏电极通过形成在绝缘夹层中的漏极接触孔与漏极保护图案接触。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体管 基底 制造 方法 包括 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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