[发明专利]一种低温碳化硅陶瓷及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910882493.9 申请日: 2019-09-18
公开(公告)号: CN110627507B 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 郭伟明;吴利翔;袁进豪;牛文彬;詹创添;朱林林;林华泰 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C04B35/573 分类号: C04B35/573;C04B35/64;C04B35/65;C04B35/645;F41H5/00
代理公司: 广东广信君达律师事务所 44329 代理人: 杨晓松
地址: 510062 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于陶瓷技术领域,公开了一种低温碳化硅陶瓷及其制备方法和应用,所述低温碳化硅陶瓷是将Al粉、Si粉和C粉均匀混合后,先将Al‑Si‑C混合粉体在1500~1800℃下加热反应,然后将反应后所得粉体A在空气或氧气下继续在600~1000℃加热处理,再将热处理后所得粉体B在真空或氩气下1500~1800℃烧结制得。本发明制得的碳化硅陶瓷的致密度为95~100%,粒径为10nm~10μm,硬度为25~40GPa,断裂韧性为8~12MPa·m1/2,抗弯强度800~1500MPa。本发明的碳化硅陶瓷可应用于防弹装甲、航空航天或核能领域中。
搜索关键词: 一种 低温 碳化硅 陶瓷 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种低温碳化硅陶瓷,其特征在于,所述低温碳化硅陶瓷是将Al粉、Si粉和C粉均匀混合后,先将Al-Si-C混合粉体在1500~1800℃下加热反应,然后将反应后所得粉体A在空气或氧气下继续在600~1000℃加热处理,再将热处理后所得粉体B在真空或氩气下1500~1800℃烧结制得。/n
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