[发明专利]等离子体处理设备在审
| 申请号： | 201910883431.X | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN111180303A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 李恩雨;金教赫;金晓星;宣钟宇;沈承辅;李炅勋;李在铉;任志洙;许敏宁 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 赵南;张帆 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 等离子体处理设备包括基板卡盘、聚焦环和边缘块，基板卡盘具有用于支撑基板的第一表面、与第一表面相对的第二表面及侧壁，聚焦环用于包围基板的周界；边缘块用于支撑聚焦环。所述边缘块包括位于基板卡盘的侧壁上的侧电极和位于基板卡盘的第二表面上的底电极。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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