[发明专利]W-W2

摘要

W‑W2N金属‑陶瓷纳米多层涂层，包括周期性排布于基底材料表面的调制结构，调制结构为软质相与硬质相周期交替排布于基底材料表面；W‑W2N纳米多层涂层的磁控溅射制备方法，包括以下步骤：1）提供基底材料，去除基底表面粘着的有机物；2）将基底材料快速烘干并装入真空室中，用Ar+离子束轰击基底材料，除去基底表面的氧原子，继续抽真空；3）向真空室中充入氩气与氮气的混合气体，在沉积多层涂层之前先沉积一层W2N过渡层；4）周期性向真空室中充入高纯氩气和混合气体，分别得到金属相W层和陶瓷相W2N层；控制多层涂层中的调制周期和调制比；得到高强高韧的W‑W2N纳米多层涂层；具有潜在应用价值高、强韧化效果好的特点。

主权项

1.W‑W₂N金属‑陶瓷纳米多层涂层，其特征在于，包括有周期性排布于基底材料表面的调制结构，调制结构为软质相与硬质相周期交替排布于基底材料表面；W‑W₂N纳米多层涂层的厚度为1μm；调制结构的调制周期为固定值10nm。