[发明专利]一种多次采摘西瓜栽培方法在审

专利信息
申请号: 201910886813.8 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN110463531A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 徐玉芳 申请(专利权)人: 徐玉芳
主分类号: A01G22/05 分类号: A01G22/05;A01C21/00
代理公司: 34155 合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 张海燕<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 236500 安徽省阜*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种多次采摘西瓜栽培方法,在西瓜种植时通过对温度、西瓜种植方法以及西瓜采摘方法进行改进,从而使西瓜种植产量更高,种植效果更好。
搜索关键词: 西瓜种植 采摘 西瓜栽培 西瓜 种植 改进
【主权项】:
1.一种多次采摘西瓜栽培方法,在西瓜种植时通过对温度、西瓜种植方法以及西瓜采摘方法进行改进其特征在于:/n(1)温度/n西瓜种植大棚长35-40米且南北通透,这样的大棚冬天便于保温,夏天便于通风;/n利用四膜技术控制西瓜幼苗生长在15℃-30℃的环境保持幼苗生长,西瓜长成成苗后最高温度不能高于50℃;/n当土壤温度如低于15℃时,土壤就会遗留镰刀杆菌,这种病菌生长范围是5-15℃,镰刀杆菌抑制幼苗生长;/n在每年6月份后气温升高,通过开放大棚蓬头和大棚中间挖洞等方式使大棚温度保持在15℃-30℃左右,只要温度在15℃-50℃,西瓜均能健康生长;/n(2)西瓜种植方法:/n每年3月底前后种植,每亩地种植500棵西瓜,在大棚内部每1米种植3棵西瓜种子;西瓜种植批次分两批,分别为重茬与早茬,重茬种植要比早茬晚10-15天;/n种植前需将土壤分为第一年种植区、第二年种植区及灌溉区,在土地中间设置一条通路,在通路两旁设置第二年种植区,在第二年种植区外侧设置有第一年种植区,第一年种植区与第二年种植区之间相隔离,所述水管与第一年种植区及第二年种植区边缘贴合,水管设在泥土内侧;/n第一年种植区与第二年种植区之间挖深度为40cm的深沟,在深沟内铺薄膜使第一年种植区与第二年种植区隔离,根系只能在深沟两侧的第一年种植区与第二年种植区内生长;/n所述第一种种植区与第二种植区在播种前,需要深挖土壤,施加用于杀死根基的底肥,底肥要选择亲土1号、豆泊有机肥、生物菌肥及芝麻圆饼;/n(3)西瓜采摘:/n①首先让西瓜藤中的粗藤作为主干,细藤作为副干,主干开花后人工传粉仅让主干受精,33-38天后主干上的第一批瓜成熟,在5月1日前上市;/n②第一批西瓜采摘后,副藤开始开花,给西瓜根部补充肥料,大棚温度保持在15℃-30℃,通过蜜蜂等其他飞虫使N个花蕊受精,28-33天第二批西瓜成熟,在6月1日前上市;/n③第二批西瓜成熟上市后,进一步给西瓜根部补充肥料,同时大棚温度保持在15℃-30℃,主、副干同时开花,通过蜜蜂等其他飞虫使N个花蕊受精,23-28天第三批西瓜成熟,在6月30日前上市。/n
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