[发明专利]大型环拋机校正盘下表面平面度测量装置及方法在审

专利信息
申请号: 201910886833.5 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN110595400A 公开(公告)日: 2019-12-20
发明(设计)人: 陈军;邵建达;张慧方;吴伦哲;吴福林;张一林 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司
主分类号: G01B11/30 分类号: G01B11/30
代理公司: 31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种大型环抛机校正盘下表面平面度测量装置,该装置包括承载校正盘的转位台和位于转位台内部的测量模组。转位台自下而上是底座、万向球平台、测量狭缝、固定立柱、活动立柱和辅助轮。测量模组自下而上依次是万向轮、平台、水槽、龙门式框架、直线模组、激光位移传感器和触针位移传感器。本发明采用液平面作为参考基准,具有结构简单、测量准确、操作方便的特点,实现对大型环抛机校正盘下表面的平面度测量,以避免“大偏差”校正盘对抛光模的影响,有利于及时修正校正盘面形和保持抛光模面形稳定,提高加工效率。
搜索关键词: 校正盘 转位台 大型环抛机 测量模组 抛光模 下表面 测量 触针位移传感器 激光位移传感器 平面度测量装置 水槽 龙门式框架 平面度测量 万向球平台 参考基准 固定立柱 活动立柱 加工效率 直线模组 辅助轮 万向轮 液平面 底座 面形 盘面 狭缝 校正 承载 修正
【主权项】:
1.一种大型环抛机校正盘下表面平面度测量装置,其特征在于,包括转位台(1)和测量模组(2),该测量模组(2)位于所述的转位台(1)下方;/n所述的转位台(1)由底座(11)、万向球承载台(12)、固定立柱(13)、活动立柱(14)、辅助轮(15)和测量狭缝(16)构成,所述的万向球承载台(12)固定于底座(11)上,所述的万向球承载台(12)的中部还开设有一条测量狭缝(16),在所述的万向球承载台(12)上,以测量狭缝为(16)镜像对称的两个顶角分别安装有固定立柱(13),在该万向球承载台(12)上的另两个顶角分别安装有可拆卸的活动立柱(14),每个固定立柱(13)和活动立柱(14)的顶端均安装有一个可以沿立柱轴转动的辅助轮(15);/n所述的测量模组(2)包括万向轮组件(21)、平台(22)、水槽(23)、龙门式框架(25)、直线模组(31)、连接板(32)、激光位移传感器(33)和触针位移传感器(34);所述的平台(22)的底部四角分别安装有带锁止功能的万向轮组件(21),所述的平台(22)的顶面固定有龙门式框架(25)和水槽(23),所述的龙门式框架(25)包括一根横跨平台台面的横梁和位于平台两侧的立柱,横梁侧面固定安装有已调水平的直线模组(31),连接板(32)固定连接在直线模组(31)的滑块上,该滑块由伺服电机和丝杠驱动,在所述的连接板(32)上固定有激光位移传感器(33)和触针位移传感器(34),且所述的激光位移传感器(33)和触针位移传感器(34)位于同一水平高度,该激光位移传感器(33)的正下方为所述的水槽(23),该水槽(23)内装有水(24),所述的激光位移传感器(33)的探针垂直指向水(24),触针位移传感器(34)的探针垂直向上穿过所述的测量狭缝(16)。/n
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