[发明专利]一种针对超电大尺寸规模目标的近场电磁散射仿真方法有效
| 申请号： | 201910886998.2 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110705058B | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 杨伟;廖成晋;齐聪慧;赵志钦;胡皓全;雷世文;田径 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06T17/20 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 胡晓丽 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种针对超电大尺寸规模目标的近场电磁散射仿真方法：导入STL格式的模型文件，读取构成雷达目标的每个三角面元的相关信息；输入需要计算的参数；判断面元是否被入射波照亮，并标记打亮的面元；对每个被标记为照亮的三角面元，计算其表面电流和磁流：求解出每个被标记为照亮的三角面元引起的散射场 |
||
| 搜索关键词： | 一种 针对 电大 尺寸 规模 目标 近场 电磁 散射 仿真 方法 | ||
【主权项】：
1.一种针对超电大尺寸规模目标的近场电磁散射仿真方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤1，导入STL格式的模型文件，并读取构成雷达目标的每个三角面元的坐标信息和面元法线信息；/n步骤2，输入需要计算的参数；/n步骤3，判断面元是否被入射波照亮，并标记被入射波打亮的面元；/n步骤4，对每个被标记为照亮的三角面元，计算其表面电流和磁流：/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910886998.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
