[发明专利]一种循环槽体潜排系统

摘要

本发明涉及链式湿法处理设备技术领域，具体公开了一种循环槽体潜排系统，包括硅片、主槽和副槽，所述主槽的两侧均设有溢流区，溢流区通过管道与副槽连通，主槽的上部设有多个间隔均匀分布的传动辊，硅片的上表面附有保护液；所述循环槽体潜排系统还包括潜排组件和用于将副槽内的腐蚀液输送到主槽内的输送组件。该循环槽体潜排系统的硅片在传动辊的转动下水平移动进入主槽时，硅片的下表面与腐蚀液接触并发生化学腐蚀反应，反应产生的水及反应物会存留在传动辊与传动辊之间的腐蚀液中，通过潜排管的排水口可以及时流向副槽，使得主槽区域表层液面无因水流造成的明显波动，而且局部腐蚀液均匀性得到很好的保证。

主权项

1.一种循环槽体潜排系统，包括硅片（1）、主槽（3）和副槽（8），其特征在于：/n所述主槽（3）的两侧均设有溢流区（6），主槽（3）上设有挡水板（5），溢流区（6）通过管道与副槽（8）连通，主槽（3）的上部设有多个间隔均匀分布的传动辊（10），硅片（1）的上表面附有保护液（9），保护液（9）为水；/n所述循环槽体潜排系统还包括潜排组件和用于将副槽（8）内的腐蚀液输送到主槽（3）内的输送组件。/n