[发明专利]一种导电基底上垂直生长MXene的方法有效

专利信息
申请号: 201910891263.9 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN112537773B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 叶萃;叶长辉;王敏强;吴震;毕丽丽 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C01B32/90 分类号: C01B32/90;C01B21/06
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;俞慧
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种导电基底上垂直生长MXene的方法,包括:(1):选取导电基底,进行预处理;(2):将步骤(1)处理后的导电基底浸在MXene分散液中,使导电基底与MXene分散液充分接触;(3):将步骤(2)处理后的导电基底进行冷冻干燥处理,所述冷冻干燥处理按照如下实施:①梯度冷凝:取结构如图所示的梯度冷凝模具,将梯度冷凝模具部分浸在冷凝介质中,确保整个长方体模块A及部分楔形模块B与冷凝介质直接接触,且楔形模块C不与冷凝介质直接接触,将导电基底置于楔形模块C上,在冷凝介质中冷冻1~20min,获得冻结好的导电基底;②将冻结好的导电基底转移至冷冻干燥机中,进行后续升温干燥操作,获得MXene基导电基底,其中MXene以垂直排列的方式生长在导电基底表面。
搜索关键词: 一种 导电 基底 垂直 生长 mxene 方法
【主权项】:
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