[发明专利]一种导电基底上垂直生长MXene的方法有效
申请号: | 201910891263.9 | 申请日: | 2019-09-20 |
公开(公告)号: | CN112537773B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 叶萃;叶长辉;王敏强;吴震;毕丽丽 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C01B32/90 | 分类号: | C01B32/90;C01B21/06 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 黄美娟;俞慧 |
地址: | 310014 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种导电基底上垂直生长MXene的方法,包括:(1):选取导电基底,进行预处理;(2):将步骤(1)处理后的导电基底浸在MXene分散液中,使导电基底与MXene分散液充分接触;(3):将步骤(2)处理后的导电基底进行冷冻干燥处理,所述冷冻干燥处理按照如下实施:①梯度冷凝:取结构如图所示的梯度冷凝模具,将梯度冷凝模具部分浸在冷凝介质中,确保整个长方体模块A及部分楔形模块B与冷凝介质直接接触,且楔形模块C不与冷凝介质直接接触,将导电基底置于楔形模块C上,在冷凝介质中冷冻1~20min,获得冻结好的导电基底;②将冻结好的导电基底转移至冷冻干燥机中,进行后续升温干燥操作,获得MXene基导电基底,其中MXene以垂直排列的方式生长在导电基底表面。 | ||
搜索关键词: | 一种 导电 基底 垂直 生长 mxene 方法 | ||
【主权项】:
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