[发明专利]一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910893169.7 申请日: 2019-09-20
公开(公告)号: CN110534226B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 史俊 申请(专利权)人: 乐清市泰博恒电子科技有限公司
主分类号: H01B1/04 分类号: H01B1/04;H01B5/00;H01B13/00;C01B32/184
代理公司: 苏州苏旺知识产权代理事务所(普通合伙) 32477 代理人: 方昊佳
地址: 325600 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种耐低温高阻透明导电膜及其制备方法,涉及透明导电薄膜材料技术领域。本发明先用葡聚糖对氧化石墨烯进行还原,制得改性石墨烯,然后,将预处理硅片分别浸泡于聚烯丙胺盐酸盐溶液和四氯合锌酸铵溶液中,制得改性硅片,最后将改性硅片与改性石墨烯混合,并在还原剂的作用下反应,制得载膜硅片,揭膜后,干燥,制得耐低温高阻透明导电膜。本发明制备的耐低温高阻透明导电膜具有较好的透光率,且电阻率相对较高,在低温条件下能良好的使用。
搜索关键词: 一种 低温 透明 导电 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种耐低温高阻透明导电膜,其特征在于,主要包括以下重量份数的原料组分:30~50份改性石墨烯和5~10份四氯合锌酸铵。/n
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