[发明专利]一种可控温的离子注入机及其控温方法

摘要

本发明公开了一种可控温的离子注入机及其控温方法，通过设置离子源装置生成离子束，通过靶盘的旋转及摆动，使各靶片的正面被离子束全方位注入，辅助处理模块用于对靶片辅助加热或冷却，温度传感器用以测量靶片背面不同位置的温度，处理器，接收各温度传感器的温度信号，截得一个温度最大值，运算同时间剩余的各温度信号得到一个温度均值，运算温度最大值和温度均值相减得到一个温度差值，由于靶片温度来自离子束照射的自加热以及辅助处理模块的加热或冷却，通过运算温度差值和第一预设值比值，温度均值和第二预设值比值，以此可准确控制离子束能量导致的温度偏差以及辅助处理模块带来的温度偏差，实现对离子注入机靶片温度的准确控制。

主权项

1.一种可控温的离子注入机，其特征在于，包括：/n离子源装置，用于生成离子束；/n注入腔，通过管道与所述离子源装置连接，以引入所述离子束；/n靶盘，通过机械臂连接固定在所述注入腔内，所述机械臂内设置有旋转电机，可带动所述靶盘轴向旋转，所述机械臂与所述注入腔连接处通过摆动电机可带动所述机械臂，使所述机械臂在平行所述靶盘平面方向上来回摆动；/n晶片爪，固定于所述靶盘侧周围，用于夹紧靶片，使所述离子束可照射于所述靶片正面，通过所述靶盘的旋转及摆动，用于对所述靶片正面全方位注入；/n辅助处理模块，固定在所述机械臂上，离子注入时，可用于对所述靶片正面辅助加热或冷却；/n温度传感器，固定在所述晶片爪上，所述温度传感器至少有两个，以测量所述靶片背面不同位置的温度，且测量位置间的最小距离大于所述离子束照射到所述靶片的束斑的最大径；/n处理器，所述处理器输入端电连接有所述温度传感器，输出端电连接有所述离子源装置及所述辅助处理模块，可接收一个所述全方位注入周期内各所述温度传感器的温度信号，截得一个温度最大值，并运算同时间剩余的各所述温度信号得到一个温度均值，运算所述温度最大值和所述温度均值相减得到一个温度差值，运算所述温度差值和第一预设值比值，以同比例控制所述离子源装置的功率，运算所述温度均值和第二预设值比值，以同比例控制所述辅助处理模块的功率。/n