[发明专利]一种红外传感器掩膜制造方法、装置、系统及存储介质在审

专利信息
申请号: 201910900526.8 申请日: 2019-09-23
公开(公告)号: CN110647993A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 郝祁;马睿 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: G06N3/08 分类号: G06N3/08;G01J5/00;G01J5/02;G01J5/12
代理公司: 11332 北京品源专利代理有限公司 代理人: 孟金喆
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例公开了一种红外传感器掩膜制造方法、装置、系统、存储介质、掩膜、红外传感装置及图像识别方法。其中,该方法包括:将预设目标的第一样本照片输入预设的第一神经网络进行训练,使得所述第一神经网络能够识别所述预设目标;输出完成训练的所述第一神经网络的第一层掩膜的权重矩阵以及第一层掩膜图形,以制作红外传感器的掩膜。本发明实施例的技术方案,利用不同的数据集可设计针对性不同的掩模,使红外传感器对于特定的人体运动识别与检测精度更高,在设计过程中就可以预测掩模的性能,节省测试成本。不像现有掩模,必须制造出来进行实验后才知道是否对人体运动识别有效。而且,用途广,可根据不同的应用需求设计不同的掩模。
搜索关键词: 掩模 掩膜 红外传感器 神经网络 人体运动识别 预设目标 第一层 红外传感装置 测试成本 存储介质 权重矩阵 设计过程 输出完成 图像识别 掩膜图形 样本照片 应用需求 数据集 预设 制造 检测 预测 制作
【主权项】:
1.一种红外传感器掩膜制造方法,其特征在于,包括:/n将预设目标的第一样本照片输入预设的第一神经网络进行训练,使得所述第一神经网络能够识别所述预设目标;/n输出完成训练的所述第一神经网络的第一层掩膜的权重矩阵以及第一层掩膜图形,以制作红外传感器的掩膜。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南方科技大学,未经南方科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910900526.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top