[发明专利]一种湿式CMP镜面抛光液和制备方法在审
申请号: | 201910902179.2 | 申请日: | 2019-09-17 |
公开(公告)号: | CN110591564A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 吕鸿图;汤宁琦 | 申请(专利权)人: | 昆山纳诺新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种湿式CMP镜面抛光液,其由A、B两种组分组成,其中A组分由下列重量份的组分制得:有机酸5‑30份、蜡20‑50份、乳化剂4‑20份、去离子水30‑100份。B组分是由下列重量份的组分制得:磨料50‑80份、悬浮剂5‑15份、缓蚀剂1‑5份、防锈剂3‑10份、消泡剂5‑10份、去离子水20‑80份,其制备方法为:1)制备A组分:采用相转变剂在油中法,将A组分的有机酸、蜡、乳化剂混合在一起,加热至80‑120℃完全熔化,加入100℃左右热去离子水高速搅拌直至变成水性水性;2)制备B组分:取去离子水,加入磨料并搅拌均匀,然后依次加入悬浮剂、缓蚀剂、防锈剂、消泡剂,搅拌均匀备用;3)取冷却后的A组分与B组分搅拌混合均匀;4)调节pH值7~10。本发明制备的抛光液分散、悬浮性好、润滑性好、易于清洗、出光效果好、成本低、可循环使用。 | ||
搜索关键词: | 制备 去离子水 磨料 防锈剂 缓蚀剂 抛光液 消泡剂 悬浮剂 有机酸 重量份 熔化 热去离子水 乳化剂混合 镜面 出光效果 高速搅拌 可循环 乳化剂 润滑性 悬浮性 转变剂 湿式 加热 备用 冷却 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种湿式CMP镜面抛光液,其特征在于所述的抛光液由A、B两种组分组成,其中A组分由下列重量份的组分制得:有机酸5-30份、蜡20-50份、乳化剂4-20份、去离子水30-100份。B组分是由下列重量份的组分制得:磨料50-80份、悬浮剂5-15份、缓蚀剂1-5份、防锈剂3-10份、消泡剂5-10份、去离子水20-80份。/n
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