[发明专利]晶片的加工方法在审

专利信息
申请号: 201910903129.6 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN110993494A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 白滨智宏 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 乔婉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 提供晶片的加工方法,能够抑制所需工时的增加,同时能够赋予去疵能力。晶片的加工方法是将晶片薄化的加工方法,其中,该晶片的加工方法具有如下的步骤:保护部件粘贴步骤(ST2),在晶片的正面侧粘贴保护部件;磨削步骤(ST3),利用卡盘工作台的保持面对晶片的保护部件侧进行保持,利用将磨粒借助结合材料固定而得的磨削磨具对晶片的背面侧进行磨削而进行薄化;以及研磨步骤(ST4),在磨削步骤(ST3)之后,一边对晶片的背面侧提供浆料一边将旋转的研磨垫按压于晶片的背面侧,对晶片的背面侧进行研磨直至成为略微残留有因磨削而形成的磨削应变层的状态为止,从而生成去疵层。
搜索关键词: 晶片 加工 方法
【主权项】:
暂无信息
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