[发明专利]一种真空蒸馏装置有效

专利信息
申请号: 201910903883.X 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN110575677B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 龙剑平;周堃;杨武勇;杨士杰;张程 申请(专利权)人: 成都理工大学;峨嵋半导体材料研究所
主分类号: B01D3/10 分类号: B01D3/10;B01D3/14;B01D3/32;B01D3/42
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 代理人: 何强;武森涛
地址: 610051 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开一种真空蒸馏装置,涉及真空蒸馏技术领域一种真空蒸馏装置,包括粗蒸馏设备、精蒸馏设备和蒸汽管,粗蒸馏设备和精蒸馏设备的内腔通过蒸汽管连通,粗蒸馏设备包括粗蒸馏盖、坩埚和粗蒸馏腔体,坩埚设置在粗蒸馏腔体的内腔底部,精蒸馏设备包括汇集盖、冷凝装置、折流装置、坩埚和精蒸馏腔体,折流装置内腔设置有若干折流板,折流装置上端连接冷凝装置,折流装置下端连接精蒸馏腔体,冷凝装置内腔设置有若干个冷凝管,冷凝装置上端设置有汇集盖,汇集盖上端设置有尾气管。该发明真空蒸馏设备可以实现一次投料对物料进行两次蒸馏提纯,做到生产效率和提纯效率的双提高,防止在多次蒸馏过程中物料过多接触氧气而产生氧化效应。
搜索关键词: 一种 真空 蒸馏 装置
【主权项】:
1.一种真空蒸馏装置,其特征在于:包括粗蒸馏设备(1)、精蒸馏设备(2)和蒸汽管(3),所述粗蒸馏设备(1)和精蒸馏设备(2)的内腔通过蒸汽管(3)连通,所述粗蒸馏设备(1)包括粗蒸馏盖(4)、坩埚(5)和上端开口的粗蒸馏腔体(6),所述粗蒸馏盖(4)设置在粗蒸馏腔体(6)上端,所述坩埚(5)设置在粗蒸馏腔体(6)的内腔底部,所述精蒸馏设备(2)包括汇集盖(12)、冷凝装置(7)、折流装置(8)、坩埚(5)和上端开口的精蒸馏腔体(9),所述折流装置(8)为贯通的空腔结构,折流装置(8)内腔设置有若干折流板(10),所述折流板(10)一端设置在折流装置(8)内壁的一侧,折流板(10)另一端与折流装置(8)内壁的另一侧有间隙,且若干折流板(10)交错间隔设置在折流装置(8)的内壁,折流装置(8)上端连接冷凝装置(7),折流装置(8)下端连接精蒸馏腔体(9),所述冷凝装置(7)为端口密封的腔体,冷凝装置(7)内腔设置有若干个冷凝管(11),所述冷凝管(11)一端贯穿冷凝装置(7)的下端面,另一端贯穿冷凝装置(7)的上端面,所述冷凝装置(7)上端设置有汇集盖(12),所述汇集盖(12)上端设置有尾气管(13),所述尾气管(13)连通汇集盖(12)内腔,所述精蒸馏腔体(9)内腔底部设置有坩埚(5)。/n
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