[发明专利]磁性隧道结刻蚀方法有效
申请号: | 201910908982.7 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN112563412B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 王曙光;钱虓;杨成成;冀正辉;刘瑞盛;李辉辉 | 申请(专利权)人: | 浙江驰拓科技有限公司 |
主分类号: | H10N50/01 | 分类号: | H10N50/01 |
代理公司: | 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 | 代理人: | 赵永刚 |
地址: | 311300 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种磁性隧道结刻蚀方法,包括:提供待刻蚀件,所述待刻蚀件至少包括由下向上依次形成的参考层、第一隧穿层、自由层和覆盖层;对所述待刻蚀件进行第一次刻蚀形成第一刻蚀件,第一次刻蚀在硬掩模覆盖之外部分的刻蚀终点位置高于所述自由层上表面;在所述第一刻蚀件上沉积牺牲层,所述牺牲层覆盖在所述第一刻蚀件上;对所述牺牲层、自由层以及自由层以下各层进行第二次刻蚀形成磁隧道结位元。本发明提供的磁性隧道结刻蚀方法,能够降低刻蚀过程中对磁性隧道结的损伤以及再沉积导致的短路现象。 | ||
搜索关键词: | 磁性 隧道 刻蚀 方法 | ||
【主权项】:
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