[发明专利]利用ALD技术增强修复刻蚀设备部件阳极氧化涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201910920519.4 申请日: 2019-09-25
公开(公告)号: CN112553598B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 郭盛;陈星建;倪图强 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/40;C25D11/24
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 贾慧琴;包姝晴
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种利用ALD技术增强修复刻蚀设备部件阳极氧化涂层的方法,其包含:S1,将具有阳极氧化涂层的刻蚀设备部件置于原子层沉积反应器中,通入含铝第一反应气体,进行第一化学吸附,使得第一反应气体吸附至刻蚀设备部件表面;S2,采用氮气流吹扫;S3,通入第二反应气体,进行第二化学吸附;S4,采用氮气流吹扫;S5,重复步骤S1‑S4,直到刻蚀设备部件符合要求。本发明利用ALD镀膜工艺,使阳极氧化涂层中的裂纹愈合,有效地提高了抗腐蚀性能,对刻蚀设备部件进行有效的保护,不仅耐等离子体腐蚀,尤其是耐腐蚀性反应气体腐蚀,且,不涉及硬件变动,使得晶圆片远离金属和颗粒污染,达到稳定运行和延长使用寿命的目的。
搜索关键词: 利用 ald 技术 增强 修复 刻蚀 设备 部件 阳极 氧化 涂层 方法
【主权项】:
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